阿天视线（44）

整机外设

　　高k材料将取代二氧化硅

　　英特尔公司于11月5日宣布已发现新型的、可以取代30多年来芯片制造业一直使用的制造材料。新材料被称为高k(High-k)，用于栅极电介质(high-k gate dielectrics)，另一种称为金属栅极(Metal Gate)的材料将取代传统的晶体管栅极材料(编注：栅极是晶体管的一部分，它决定着晶体管的开、合状态；而栅极电介质则是附着在栅极下面的一层很薄的绝缘体)。

　　这两种新材料的结合可以显著减少电流泄漏现象，改善功耗以及热量问题。英特尔称，新的高k材料在减少漏电的能力上将比二氧化硅高100多倍。英特尔计划最早在2007年采用这些新材料的晶体管集成到未来的处理器中，作为45纳米制程的组成部分。

　　威盛本月推出DeltaChrome

　　威盛在本月将推出新的显示芯片DeltaChrome。新产品分为F1、S8和S4三个系列，分别针对高中低市场。最高端的DeltaChrome F1采用0.13微米工艺，集成8条流水线，完全支持DX9.0。面对中端市场的S8同样采用8条流水线设计，也支持DX9.0标准，但是最大只能集成128MB显存。作为针对低端的DeltaChrome S4在规格上和S8相近，支持DX9.0和最大128MB显存，但是仅集成4条流水线。