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硬件周刊

最近来自国际方面的硬件消息很多，不过多数都围绕着Matrox幻日显卡(G1000)以及Intel的P4核心的Celeron处理器。而同样在计算机领域中占有很重要位置的硬盘存储方面的技术也有很大进步，下面是一组与硬盘存储相关的消息，与大家一起分享。

富士通硬盘技术可使单碟容量提升6倍

日本富士通公司新开发出一种新型硬盘磁头技术，该技术将使硬盘的数据存储密度达到300Gbit/平方英寸。本次富士通公司实现的技术突破被称作“CPP型巨磁电阻(CPP-GMR)磁头技术”，与现有CIP型巨磁电阻磁头相比，其信号敏感度更强，数据读写密度是后者的3倍。
　　当前市面上2.5英寸硬盘的单碟存储容量为30GB，一旦富士通在未来2~4年时间内将最新技术投入市场，硬盘的单碟容量将提高6倍，达到180GB。富士通公司计划在两年内采用新技术生产可用于笔记本电脑、台式电脑、游戏机、录像机等产品的硬盘。该公司表示，高容量的2.5英寸硬盘最终将取代笨重的3.5英寸硬盘。据国际磁盘驱动设备制造协会(IDEMA)统计，在过去10年中，硬盘容量升级速度已超过处理器升级速度。与此同时，硬盘容量价格从1988年的11.54美元/兆字节降低至目前的0.01美元/兆字节。生产硬盘的独立厂商总数也从75家减少到了现在的13家。

东芝推出超薄2.5英寸60GB硬盘

东芝将于2002年5月底开始上市厚度仅9.5mm的超薄型2.5英寸60GB硬盘“MK6021GAS”。这种新硬盘在非工作状态时具有较高的耐冲击性，主要用于笔记本电脑等移动终端产品，重99g。
　　东芝在开发介质、信号处理技术及伺服技术等关键技术的同时，通过配备新开发的高灵敏度磁头，制造出了目前世界最大面记录密度──密度高达75.Mbit/平方毫米(48.8Gbit/平方英寸)的磁盘装置。每枚2.5英寸盘片的存储容量达30GB，此次的“MK6021GAS”使用了2枚盘片。盘片的转速为4200rpm。
　　另外，东芝通过采用液压轴承马达等控制振动的设计，降低了硬盘噪音，在空闲状态时，平均噪音仅为24dB。而且，在印刷电路板材料方面，采用的是焚烧时可抑制二恶英产生的无卤素底板，另外在印刷电路板上封装时采用的是无铅焊锡，充分考虑到了环境问题。该硬盘工作电压为+5.0V，耗电量方面，读写时为2.3W，空闲时为0.7W。

东芝在2.5英寸硬盘上试制出新型存储介质

东芝在2.5英寸硬盘用的玻璃底板上试制出了新的存储介质(Patterned Media)，该公司在荷兰阿姆斯特丹举办的Intermag2002(磁记录国际会议)上发布了这种介质。
　　在盘片底板上制备圆形介质“尚属首次”(演讲者)。制备介质必须采用电子束刻蚀法，而现有装置无法制备出高精度的微细圆形凹陷。东芝配合使用该公司的自组装技术和电子束刻蚀法，在2.5英寸的玻璃底板上试制出了这种介质。
　　制备方法大致分为两个阶段。首先，在以电子束刻蚀法制作的镍母盘(Ni Master Disk)上刻蚀出深度为110nm的圆形凹陷。然后，使用自组装技术在凹陷内排列直径为40nm的Co74Cr6Pt20粒子，粒子之间的间隔为80nm，最后将凹陷部分填平。此次东芝试制的是岸部宽度分别为60nm、150nm、200nm、250nm的4种产品。今后，该公司将使用晶格介质磁盘测试HDD的记录及播放。

美国SmartDisk发表微型20GB硬盘

美国SmartDisk公司近日发表了支持Universal Serial Bus(USB)2.0的硬盘“FireFly for USB”，存储容量为20GB。在这个大小仅相当于1副扑克牌的硬盘中，可以保存最大20小时的高质量录像、5000首以上的MP3、15000张以上的高清晰度数码相片，主要用于便携终端。
　　硬盘外壳采用金属镁制造，大小为：宽2.5英寸(约66mm)、长4英寸(约102mm)、厚0.6英寸(约15mm)，重约4盎斯(约113g)。由于支持USB 2.0和USB 1.1，因而可以用于不同版本USB设备之间的数据传送。电源由计算机供给，因此无须配备电源适配器。同时由于兼容Mass Storage Class，因此在Windows及MacOS的几乎所有版本中都可以不安装驱动程序便可使用。
　　FireFly for USB的20GB的产品价格为399.95美元，已于本月初上市。此前，该公司已经推出了5GB的产品，价格为199.95美元。

日立突破硬盘记录密度大关

为进一步提高硬盘记录密度，日立日前引进了垂直磁记录和TMR磁头两项技术，进行了密度高达107Gbit/平方英寸的记录播放实验，并在Intermag2002(磁记录国际会议)上发表了相关结果。虽然还没有达到测定比特错误率的阶段，算不上实证实验，但在业内使用垂直磁记录方式突破100Gbit/平方英寸的实验尚属首次。而且，作为TMR磁头的应用实例，这次发布的技术也达到了业内最高记录密度。
　　此次实验中，线记录密度和轨道密度分别达到了704kBPI(750FCI)和152kTPI。通过把记录磁头的磁极宽度减小至140nm而将轨道间距缩小到了167nm。尽管减小到如此程度可能会引起写入状态不稳定，但通过改进主磁极材料和制造方法解决了这一问题。饱和磁束密度为2.2T。磁头-介质间的距离为17nm。
　　虽然此前已经有多种新一代播放磁头的提案，但此次试验之所以选中TMR磁头是因为这种磁头保护罩间隙容易缩小且灵敏度更高。